发明名称 全开复式滑轨结构改良
摘要 一种全开复式滑轨结构改良,其系可应用于各式柜体及抽屉上,其主要系由外轨、活动轨及屉轨所组成,其中该外轨及屉轨系分别固定于柜体内侧及抽屉外侧之相对位置,此外活动轨系在外轨内滑动,而屉轨则系在该活动轨内滑动,其特征在于:该屉轨系以一金属板材利用多重弯曲之方式形成一「ㄈ」形之滑动段,且该屉轨系与抽屉结合固定。藉由前述之设计,不仅可以获得良好的支撑强度,且可降低所使用金属板材之厚度,不仅可降低成本,且可大幅提升加工之便利性者。
申请公布号 TWM279252 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW094210851 申请日期 2005.06.28
申请人 温正看 发明人 温正看
分类号 A47B88/04 主分类号 A47B88/04
代理机构 代理人 陈明哲 台北市内湖区旧宗路2段181巷6号4楼
主权项 1.一种全开复式滑轨结构改良,其系可应用于各式柜体及抽屉上,其主要系由外轨、活动轨及屉轨所组成,其中该外轨及屉轨系分别固定于柜体内侧及抽屉外侧之相对位置,而活动轨系在外轨内滑动,而屉轨则系在该活动轨内滑动,其特征在于:该屉轨系以一金属板材利用多重弯曲之方式形成一呈「ㄈ」形之滑动段,该屉轨系与抽屉结合固定,且该滑动段系分别突出于抽屉之两侧者。2.如申请专利范围第1项所述全开复式滑轨结构改良,其中,外轨进一步系呈「ㄈ」形之滑槽,滑槽上设有一向下凸出之第一阻挡块,于外轨下方之平面则另设有一定位凹槽及第二阻挡块,此外,于同样呈「ㄈ」形活动轨之前、中、后端分别设有第一支撑滚轮、第二支撑滚轮及第三支撑滚轮,于该活动轨上位于下方之平面上之前后端则分别设有向上延伸之第三阻挡块及第四阻挡块,活动轨之尾端则设有一向上突出之第七阻挡块,另外于活动轨侧边枢设有一上压迫轮及下压迫轮,该上压迫轮及下压迫轮之间隙系略大于滑动段之上下宽度,且于该活动轨之上、下二侧相对于该下压迫轮及第二支撑轮之位置分别设有穿孔,令该下压迫轮及第二支撑轮可以穿过该穿孔与外轨接触,另外于该屉轨之底面上设有向下凸出之第五阻挡块及第六阻挡块者。3.如申请专利范围第2项所述全开复式滑轨结构改良,其中,活动轨中之下压迫轮之中心孔进一步系具有可上下活动之间隙者。4.如申请专利范围第2项所述全开复式滑轨结构改良,其中,活动轨之侧边进一步设有至少一向外突出之间隙调整片者。图式简单说明:图一系习用结构之外观示意图。图二系习用结构中屉轨与抽屉部分之剖面示意图。图三系本创作之立体分解图。图四系本创作之立体组合图。图五系本创作中屉轨与抽屉部分之剖面示意图。图六系本创作中下压迫轮与定位凹槽之示意图。图七系本创作拉出展开之立体外观图。
地址 台北市大安区建国南路1段304巷35号1楼