| 主权项 |
1.一种投影曝光用罩,乃属于具有:欲对被曝光构件加以曝光连续图案的第一罩图案、和欲对前述被曝光构件加以曝光不连续图案的第二罩图案的投影曝光用罩,其特征为:前述第一及第二罩图案之中,其中一方的罩图案是属于用来反射从前述投影曝光用罩之一方的表面侧入射的光的反射型罩图案,另一方的罩图案是属于使得从前述投影曝光用罩之另一方的表面侧入射的光穿透的穿透型罩图案。2.如申请专利范围第1项所记载的投影曝光用罩,其中,照射到前述反射型及穿透型罩图案的光的照射领域具有直线状或是圆弧状的缝隙形状;前述两罩图案是交互设置在前述照射领域的长边方向。3.如申请专利范围第1项所记载的投影曝光用罩,其中,前述投影曝光用罩之中,在设有前述第一罩图案之领域的一部分,设置具有小于该第一罩图案之最小图案宽度的最小图案宽度的第三罩图案;前述第三罩图案是属于反射型及穿透型之中,与前述第一罩图案同型的罩图案。4.一种投影曝光用罩的制造方法,其特征为:前述投影曝光用罩是具有:欲对被曝光构件加以曝光连续图案的第一罩图案、和欲对前述被曝光构件加以曝光不连续图案的第二罩图案,前述第一及第二罩图案之中,其中一方的罩图案是属于用来反射从前述投影曝光用罩之一方的表面侧入射的光的反射型罩图案,另一方的罩图案是属于使得从前述投影曝光用罩之另一方的表面侧入射的光穿透的穿透型罩图案;前述投影曝光用罩的制造方法是具有:准备一对表面形成反射膜的透明基板的第一步骤、和对着前述反射膜上涂布光阻剂,且进行欲针对该光阻剂形成前述反射型罩图案之基部及前述穿透型罩图案的形状之曝光和显影的第二步骤、和对着具有利用前述第二步骤所显影的前述基部及前述穿透型罩图案之形状的反射膜上涂布光阻剂,并对着前述基部上的光阻剂加以曝光前述反射型罩图案的形状,且进行显影的第三步骤、和对着利用前述第三步骤除去前述光阻剂之部分的反射膜上形成反射防止膜的第四步骤、和用来除去经由在前述第三步骤之显影所残存的前述反射型罩图案之形状的光阻剂的第五步骤。5.一种投影曝光装置,其特征为:具有如申请专利范围第1项至第3项的任一项的投影曝光用罩,且利用前述投影曝光用罩,对着被曝光构件加以曝光连续图案和不连续图案的光学系统。6.一种投影曝光装置,其特征为包括以下:投影曝光用罩:该罩是属于具有:欲对被曝光构件加以曝光连续图案的第一罩图案、和欲对前述被曝光构件加以曝光不连续图案的第二罩图案的投影曝光用罩,且前述第一及第二罩图案之中的其中一方的罩图案是属于反射型罩图案,另一方的罩图案是属于穿透型罩图案;将从前述反射型罩图案及前述穿透型罩图案的光投射到前述被曝光构件的投影系统、和对着前述反射型罩图案从前述投影曝光用罩一方之侧来照射光的第一照明系统、和对着前述穿透型罩图案,隔着前述投影曝光用罩而从与前述一方这侧相反的这侧来照射光的第二照明系统、和使前述被曝光构件针对前述投影系统的投射光轴移动到略垂直的方向的基板台面。7.如申请专利范围第6项所记载的投影曝光装置,其中,前述投影系统是用来合成来自前述反射型罩图案的光和来自前述穿透型罩图案的光,并投射到前述被曝光构件。8.如申请专利范围第6项所记载的投影曝光装置,其中,前述第一及第二照明系统之中,对着前述第一罩图案照射光的照明系统是属于连续照明型的照明系统,对着前述第二罩图案照射光的照明系统是属于间歇照明型的照明系统。9.如申请专利范围第6项所记载的投影曝光装置,其中,前述第一及第二照明系统之中,至少从一方的照明系统对着前述投影曝光用罩,来照射直线状或是圆弧状之缝隙形状的光。10.如申请专利范围第6项至第9项的任一项所记载的投影曝光装置,其中,来自前述第一照明系统的光是经由前述投影系统而照射到前述反射型罩图案。11.如申请专利范围第10项所记载的投影曝光装置,其中,前述投影系统系具有光分离元件。该光分离元件是用来分离从前述第一照明系统照射到前述反射型罩图案之光的光路、和利用该反射型罩图案所反射并投射到前述被曝光构件之光的光路,且用来合成来自前述反射型罩图案的光和来自前述穿透型罩图案的光。12.如申请专利范围第11项所记载的投影曝光装置,其中,前述光分离元件是属于偏光分光镜;在该偏光分光镜和前述投影曝光用罩之间配置有/4板。13.如申请专利范围第6项至第9项的任一项所记载的投影曝光装置,其中,前述第一照明系统是从前述投影系统外对着前述投影曝光用罩照射光,且利用前述反射型罩图案所反射的前述光会经由前述投影系统照射到前述被曝光构件。14.如申请专利范围第6项至第9项的任一项所记载的投影曝光装置,其中,更具有:设置在前述投影系统,穿透投影到前述被曝光构件的光的平行平面板;该平行平面板是进行往复摆动;于前述平行平面板的摆动的往路或是复路,对着前述第二罩图案照射光。15.如申请专利范围第14项所记载的投影曝光装置,其中,于前述平行平面板的摆动中,对着前述第一罩图案照射光。16.一种投影曝光方法,其特征为包括以下:准备一如申请专利范围第1项至第3项的任一项所记载的投影曝光用罩的步骤、和利用前述投影曝光用罩对着被曝光构件来曝光连续图案和不连续图案的步骤。17.一种投影曝光方法,其特征为包括以下:准备投影曝光用罩的第一步骤:该投影曝光用罩是具有欲对被曝光构件加以曝光连续图案的第一罩图案、和欲对前述被曝光构件加以曝光不连续图案的第二罩图案的投影曝光用罩,且前述第一及第二罩图案之中的其中一方的罩图案是属于反射型罩图案,另一方的罩图案是属于穿透型罩图案;利用前述投影曝光罩从投影系统对着前述被曝光构件照射光的第二步骤、和使前述被曝光构件针对前述投影系统的投射光轴移动到略垂直的方向的第三步骤。在此,于前述第二步骤,对着前述反射型罩图案,从前述投影曝光用罩之一方的侧来照射光,且对着前述穿透型罩图案,隔着前述投影曝光用罩而从与前述一方这侧相反的这侧来照射光。18.如申请专利范围第17项所记载的投影曝光方法,其中,于前述第二步骤,合成来自前述反射型罩图案的光和来自前述穿透型罩图案的光,并投射到前述被曝光构件。19.如申请专利范围第17项所记载的投影曝光方法,其中,连续性照明前述第一罩图案,且间歇性照明前述第二罩图案。20.如申请专利范围第17项所记载的投影曝光方法,其中,于前述第二步骤,对着前述投影曝光用罩,来照射直线状或是圆弧状的缝隙形状的光。21.如申请专利范围第17项所记载的投影曝光方法,其中,于前述第二步骤,对着前述反射型罩图案经由前述投影系统来照射光。22.如申请专利范围第21项所记载的投影曝光方法,其中,于前述第二步骤,利用前述投影系统来分离照射到前述反射型罩图案之光的光路、和利用该反射型罩图案所反射并投射到前述被曝光构件之光的光路,且更用来合成来自前述反射型罩图案的光和来自前述穿透型罩图案的光,并照射到前述被曝光构件。23.如申请专利范围第17项所记载的投影曝光方法,其中,于前述第二步骤,使设置在前述投影系统,用来穿透投影到前述被曝光构件之光的平行平面板往复摆动;于前述平行平面板的摆动的往路或是复路,对着前述第二罩图案来照射光。24.如申请专利范围第23项所记载的投影曝光方法,其中,于前述第二步骤,于前述平行平面板的摆动中对着前述第一罩图案来照射光。图式简单说明:第1图是由表面侧观看属于本发明的第一实施形态的投影曝光用罩的图。第2图是第1图的A部放大图。第3图是第1图所示的罩之制造工程的说明图。第4图是表示使用第1图所示的罩的投影曝光装置的构成图。第5图是表示第1图所示的投影曝光装置的曝光控制的流程图。第6图是由表面侧观看在第1图所示的罩附加微细罩图案之罩时的图。第7图是表示属于本发明的第二实施形态的投影曝光装置的构成图。第8图是表示属于本发明的第三实施形态的投影曝光装置的构成图。第9图是表示属于本发明的第四实施形态的投影曝光装置的构成图。第10图是表示第9图所示的投影曝光装置的构成图。第11图是表示第9图所示的投影曝光装置的曝光控制的流程图。第12图是表示利用第9图所示的投影曝光装置被图案曝光的途中的被曝光基板的图。第13图是第12图的B部放大图。第14图是表示属于本发明的第五实施形态的投影曝光装置的构成图。第15图是由表面侧观看使用于第14图所示的投影曝光装置的罩时的图。第16图是第15图的C部放大图。第17图是表示利用第14图所示的投影曝光装置被图案曝光的途中的被曝光基板的图。第18图是表示习知的反射型投影曝光装置的构成图。 |
