| 主权项 |
1.一种平面光源装置之前基板结构,包括:至少一平面部分;以及复数个具有外凸曲面的凹陷结构,其中,该凹陷结构之内侧壁剖面呈现一凸面(convex)的轮廓。2.如申请专利范围第1项所述之平面光源装置之前基板结构,其中该凹陷结构系为近似圆锥状之结构。3.如申请专利范围第1项所述之平面光源装置之前基板结构,其中该凹陷结构系为沟槽状之结构。4.如申请专利范围第1项所述之平面光源装置之前基板结构,其中该前基板系由玻璃所制成。5.如申请专利范围第1项所述之平面光源装置之前基板结构,其中该前基板系由高分子材料所组成,且具有光透性。6.如申请专利范围第1项所述之平面光源装置之前基板结构,其中在该凹陷结构内之底部部分,其内侧壁剖面呈现一凹面(concave)轮廓。7.一种平面光源装置,至少包括:一后基板;以及一前基板,该前基板系与该后基板平行设置,且该前基板具有复数个凹陷结构,其中,该凹陷结构系自该前基板向该后基板延伸,并且该凹陷结构之内侧壁剖面呈现一凸面(convex)的轮廓。8.如申请专利范围第7项所述之平面光源装置,其中该凹陷结构系为近似圆锥状之结构。9.如申请专利范围第7项所述之平面光源装置,其中该凹陷结构系为沟槽状之结构。10.如申请专利范围第7项所述之平面光源装置,其中该前基板系由玻璃所制成。11.如申请专利范围第7项所述之平面光源装置,其中该前基板系由高分子材料所组成,且具有光透性。12.如申请专利范围第7项所述之平面光源装置,其中在该凹陷结构内接近该后基板的部分其内侧壁剖面呈现一凹面(concave)轮廓。13.如申请专利范围第7项所述之平面光源装置,更包括:复数个围绕于该前基板与该后基板四周之框架,该框架系与该前基板与后基板包围而成一夹层空间;至少一阳极电极与一阴极电极形成于该夹层空间内;一介电质层覆盖该阳极电极与该阴极电极;以及一萤光层涂布于该夹层空间内。14.如申请专利范围第12项所述之平面光源装置,更包括:复数个围绕于该前基板与该后基板四周之框架,该框架系与该前基板与后基板包围而成一夹层空间;至少一阳极电极与一阴极电极形成于该夹层空间内;一介电质层覆盖该阳极电极与该阴极电极;以及一萤光层涂布于该夹层空间内。图式简单说明:第一A图至第一B图系习知一平面光源装置之立体结构以及剖面结构示意图;第二A图至第二B图系习知另一平面光源装置内具有支撑功能的前基板其剖面结构示意图;以及第三A图至第三D图系依据本发明之一较佳具体实施例所提供之平面光源装置内前基板之结构示意图。 |
