沈积介电膜的晶圆间均一性与不良率之改善方法

摘要

一种方法与设备，对于具有改善的晶圆间之均一性与减少粒子污染物之可调耐蚀防反射层〔Tunable EtchResistant ARC(Anti Reflecting Coating)，TERA层〕提供一改善的沈积制程。更精确地说，处理室经过乾燥以减少在TERA层沈积期间，产生于室中之污染物粒子数并改善晶圆间之均一性。此设备包括一室，此室具有一上电极、至少一射频源、一基板支座与一提供多种前驱物与处理气体之喷淋头。