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发明名称 浸渍曝光用正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
摘要 一种浸渍曝光用正型光阻组成物包括：(A)一种含至少一种具有氟原子之重复单位且因酸之作用而增加树脂在硷显影剂中溶解度之树脂；及(B)一种在以光化射线与放射线之一照射时可产生酸之化合物。094107770-p01.bmp094107770-p02.bmp094107770-p03.bmp
申请公布号 TW200535570 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW094107770 申请日期 2005.03.15
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 稻部阳树;汉那慎一;神田博美
分类号 G03F7/039;G03F7/20 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本
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