发明名称 藉由紫外线辐射交联之聚合物电解质
摘要 本发明系提供一种制备交联聚合物电解质(其通常呈可作为电解槽(例如,燃料电池)中之聚合物电解质薄膜之薄膜型式)之方法,及如此制成之聚合物,该方法包括施加紫外线辐射至高氟化氟聚合物,该高氟化氟聚合物包含:部份衍生自四氟乙烯单体之主链;包括根据式–SO2X基团之第一侧基团,其中X为F、Cl、Br、OH或–O^–M^+,其中M^+为单价阳离子;及包括Br、Cl或I之第二侧基团。一般而言,该膜之厚度为90微米或更小、更佳为60微米或更小、且最佳为30微米或更小。
申请公布号 TW200535173 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW093137819 申请日期 2004.12.07
申请人 3M新设资产公司 发明人 景乃勇;史蒂芬 约瑟夫 翰拉克;麦克 安德鲁 雅卓希特
分类号 C08J3/28;C08F214/18;C08F214/16 主分类号 C08J3/28
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国