| 主权项 |
1.一种具有通式(1)结构的含氟之可聚合单体, 其中各个R1与R2独立为甲基基团或三氟甲基基团, 且 各个R3与R4独立为氢原子、可部份或完全经氟原子 取代的C1-6烷基、C1-4烷氧羰基、和C1-4烷氧基-C1-4 烷基。 2.如申请专利范围第1项之单体,其带有通式(2)的结 构, 其中R3与R4如同在通式(1)中之定义。 3.如申请专利范围第1项之单体,其带有以下通式(3) 之结构 4.一种制作如申请专利范围第1项之单体的方法,其 包含下列各步骤: (a)在路易士酸催化剂或质子酸催化剂的存在下,令 通式(4)代表的苯衍生物与乙基化剂(选自乙基溴、 乙基氯、乙基碘和乙基氟)反应,从而制作由通式(5 )代表的乙基苯衍生物; (b)令该乙基苯衍生物与溴在自由基引发剂或光的 存在下在0至50℃的温度下反应,从而制作由通式(6) 代表的化合物;及 (c)令通式(6)之化合物在100mmHg或更低的压力下,于 批次操作的情况在100℃或更高的温度下,及于连续 操作的情况在300至800℃的温度下,热分解为通式(1) 的单体, 其中通式(4)-(6)中的R1至R4如同在通式(1)中之定义 。 5.如申请专利范围第4项之方法,其中通式(4)的苯衍 生物为1,3-双(六氟-2-羟基-2-丙基)苯。 6.如申请专利范围第4项之方法,其中步骤(a)的乙基 化剂为乙基溴。 7.如申请专利范围第4项之方法,其中步骤(b)是在自 由基起始剂的存在下执行。 8.一种经由聚合或共聚合如申请专利范围第1项之 单体所制备的聚合物。 9.如申请专利范围第8项之聚合物,其包含由通式(7) 代表的重覆单位, 其中R1与R2如同在通式(1)中之定义, R5及R6与通式(1)中的R3及R4相同且视需要含有氧原 子与羰基键结中至少一者,R5及R6中至少一者为对 酸不稳定之保护基团, "a"及"b"为任意的整数,且"a:b"代表共聚合比例。 10.如申请专利范围第8项之聚合物,其包含由通式(8 )代表的重覆单位, 其中R1与R2如同在通式(1)中之定义, R7及R8与通式(1)中的R3及R4相同且视需要而含有芳 香环、氧原子及羰基键结中至少一者,各个R7及R8 为对酸不稳定之保护基团、烷基基团或氟化的烷 基基团,R7及R8中至少一者为烷基基团或氟化的烷 基基团,且 "a"及"b"为任意的整数,且"a:b"代表共聚合比例。 11.如申请专利范围第8项之聚合物,其中该聚合物 可经由将如申请专利范围第1项之单体与另一单体 共聚合而制备,该另一单体为至少一项选自下列类 群者:丙烯酸酯类、丙烯酸甲酯类、内含氟的丙烯 酸酯类、含氟之甲基丙烯酸类、苯乙烯、苯乙烯 衍生物、内含氟的苯乙烯衍生物、乙烯基醚类、 内含氟的乙烯基醚类、烯烃、含氟之烯烃、原冰 片烯、原冰片烯衍生物、及内含氟的原冰片烯衍 生物。 12.如申请专利范围第8项之聚合物,其包含由通式(9 )代表的重覆单位, 其中R1至R4如同在通式(1)中之定义, R9为带有碳原子数1-25且具有直链、支链或环状形 式的烷基或氟化的烷基基团,且视需要含有芳香环 、氧及羰基键结中至少一者,且 "a"及"b"为任意的整数,且"a:b"代表共聚合比例。 13.如申请专利范围第8项之聚合物,其包含由通式( 10)代表的重覆单位, 其中R1至R4如同在通式(1)中之定义, R10为氢原子、甲基基团或三氟甲基基团, R11为烷基基团或环结构且视需要含有氟、氧及羰 基键结中至少一者,该烷基带基团带有碳原子数1- 25且带有直链、支链或环状的形式,该环结构带有 芳香环, R12为氢原子、烷基或氟化的烷基基团或对酸不稳 定之保护基团,该烷基或氟化的烷基基团带有碳原 子数1-25且具有直链、支链或环状的形式,R12视需 要含有芳香环、氧及羰基键结中至少一者, "a"及"b"为任意的整数,且"a:b"代表共聚合比例,且 "n"为1-3之整数。 14.如申请专利范围第13项之聚合物,其包含由以下 通式(11)所代表的重覆单位, 其中R1至R4如同在通式(1)中之定义,R12如在通式(10) 中相同定义,且"a"及"b"为整数,且"a:b"代表共聚合比 例。 15.如申请专利范围第8项之聚合物,其包含由通式( 12)代表的重覆单位, 其中R1与R2如在通式中相同定义, R5及R6与通式(1)中的R3及R4相同且视需要含有氧原 子与羰基键结中至少一者,R5及R6至少一者为对酸 不稳定之保护基团, R9为带有碳原子数1-25且具有直链、支链或环状形 式的烷基或氟化的烷基基团,且视需要含有芳香环 、氧及羰基键结中的至少一者, R13为氢原子或烷基或氟化的烷基基团,该烷基或氟 化的烷基基团带有碳原子数1-25且具有直链、支链 或环状的形式,且视需要含有芳香环、氧及羰基键 结中的至少一者,且 "a"、"b"及"c"为任意的整数,且"a:b:c"代表共聚合比 例。 16.如申请专利范围第8项之聚合物,其包含由通式( 13)代表的重覆单位, 其中R1与R2如在通式中相同定义, R5及R6与通式(1)中的R3及R4相同且视需要至少氧原 子与羰基键结中至少一者,R5及R6中至少一者为对 酸不稳定之保护基团, R13为氢原子或烷基或氟化的烷基基团,该烷基或氟 化的烷基基团带有碳原子数1-25且具有直链、支链 或环状的形式,且视需要含有芳香环、氧及羰基键 结中至少一者, R14为氢原子或甲基基团、且 "a"及"c"为任意的整数,且"a:c"代表共聚合比例。 17.如申请专利范围第8项之聚合物,其包含由通式( 14)代表的重覆单位, 其中R1与R2如在通式中相同定义, R5及R6与通式(1)中的R3及R4相同且视需要含有氧原 子与羰基键结中至少一者,R5及R6中至少一者为对 酸不稳定之保护基团, R9为带有碳原子数1-25且具有直链、支链或环状形 式的烷基或氟化的烷基基团,且视需要含有芳香环 、氧及羰基键结中至少一者,且 "a"及"b"为整数,且"a:b:代表共聚合比例。 18.一种防反射膜材料,其包含如申请专利范围第8 项之聚合物。 19.一种光阻组成物,其包含如申请专利范围第8项 之聚合物。 |
