| 主权项 |
1.一种光罩(1202)形成方法,该光罩系使用于积体电 路制造过程中,其中,将光线透过光罩传输,该光罩 形成方法包含供给光罩基板(1210),该方法之特征包 括: 将不透光物质(1230)涂布至光罩之至少一面上,其中 ,在介于基板与不透光物质间的界面(1232)上之光之 反射为至少百分之45且不透光物质之吸收亦减少 。 2.如申请专利范围第1项之方法,进一步具有下列特 征: 将至少一种之抗反射涂料(1220)涂布至光罩基板( 1210)之一面上。 3.如申请专利范围第1项之方法,进一步具有下列特 征:涂布抗反射物质时是涂布至光罩基板(1210)之相 对面而非不透光物质(1230)。 4.如申请专利范围第1项之方法,进一步具有下列特 征:该不透光物质(1230)包含非铬物质。 5.如申请专利范围第4项之方法,进一步具有下列特 征:该不透光物质(1230)包含钼。 6.一种包含光罩基板(1210)之系统,该系统之特征为: 在光罩基板(1210)之一面上具不透光物质(1230);且 在光罩基板(1210)之另一面上至少具有一种抗反射 涂料(1220),其中,介于光罩基板(1210)与抗反射涂料( 1220)间之界面上的光反射会降低而在介于不透光 物质(1230)与基板(1210)间之介面上的光反射为百分 之45或更高。 7.如申请专利范围第6项之系统,进一步具有下列特 征:该不透光物质(1230)包含钼。 8.如申请专利范围第6项之系统,进一步具有下列特 征: 具有用以提供波长介于140与450nm间之光之光源。 9.一种光罩(1202),包含光罩基板(1210),其特征为: 在光罩基板(1210)的至少一面具有不透光物质(1230) 而在光罩基板(1210)另一面具有抗反射涂料(1220),其 中,至少有一种抗反射涂料(1220)在光罩基板(1210)之 另一面上,在介于光罩基板(1210)与抗反射涂料(1220) 间之界面上的光反射会降低,而在介于不反光物质 (1230)与基板(1210)间之介面上的光反射为百分之45 或更高。 10.如申请专利范围第9项之光罩,进一步具有下列 特征:该不透光物质(1230)为复合架构。 图式简单说明: 第1图表示用于光版印刷术中之习见光罩与光阻剂 ; 第2图表示改善透过光罩传输光线之方法的流程图 ; 第3图表示用以改善透过光罩传输光线之方法的第 一示范性实施例之流程图; 第4图表示由第3图所表示之方法的第一示范性实 施例所提供之光罩素材; 第5图为表示用以改善透过光罩传输光之方法的第 二示范性实施例之流程图; 第6图表示由第5图所表示之方法的第二示范性实 施例所提供之光罩素材; 第7图为表示用以改善透过光罩传输光之方法的第 三示范性实施例之流程图; 第8图表示由第7图所表示之方法的第三示范性实 施例所提供之光罩素材; 第9图为表示用以改善透过光罩传输光之方法的第 四示范性实施例之流程图; 第10图表示由第9图所表示之方法的第四示范性实 施例所提供之光罩素材; 第11图为表示用于制造具改良之稳定性的光罩之 方法的较佳实施例之流程图;而 第12图表示由第11图所表示之方法所提供之光罩素 材。 |
