发明名称 抗还原性介电陶瓷组合物及使用其之单石陶瓷电容
摘要 本发明在提供一种具有100以上之一介电常数及在一种高温负载下之寿命测试期间之一最佳可靠性之抗还原性介电陶瓷组合物,及提供一种藉使用所改良之抗还原介电陶瓷组合物所形成之单石陶瓷电容器。组合物包括一含有像金属元素M(M:Ca,或Ca及Sr),Zr及Ti之组合氧化物。当由一组合物化学式(Ca1-xSrx)m(Zr1-yTiy)O3所表示时, x,y,及m之数值则满足0≦x<0.5,0.60<y≦0.85,0.85<m<1.30之范围以便形成一主要组份。每隔100克分子主要组份系藉计算地将锰化合物转化成一氧化锰(MnO)及将镁化合物转化成氧化镁(MgO)而与被结合成为0.1至6克分子之范围中之一副组份之一锰化合物及一镁化合物之至少一个相混合。组合物再含有一像是二氧化矽(SiO2)之烧结副料。
申请公布号 TWI242781 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW088113101 申请日期 1999.07.31
申请人 村田制作所股份有限公司 发明人 本宪彦;元木智雄;佐野 晴信
分类号 H01B3/12;H01G4/30 主分类号 H01B3/12
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种抗还原性介电陶瓷组合物,其包括金属元素M (M:Ca,或Ca及Sr),Zr及Ti,当由一化学式(Ca1-x Srx)m-(Zr1- yTiy)O3所示时,其x,y及m之数値满足下列范围: 0≦x<0.5 0.60<y≦0.85 0.85<m<1.30 以便形成一主要组份,且每100莫耳之主要组份系与 做为副组份之锰化合物及镁化合物中之至少一者 相混合,其含量以MnO及MgO为准为0.1至6莫耳。 2.如申请专利范围第1项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该组合物另含有一烧结助剂。 3.如申请专利范围第2项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂含有Si及B之至少一者。 4.如申请专利范围第2项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂为SiO2。 5.如申请专利范围第2项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂为Li2O-(Si, Ti)O2-MO系(其中MO系Al2O3及 ZrO2)。 6.如申请专利范围第2项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂为SiO2-TiO2-XO系(其中XO系选自由BaO, SrO,CaO,MgO,ZnO及MnO所构成之群组之至少一个物质)。 7.如申请专利范围第6项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂为选自Al2O3及ZrO2之至少一个。 8.如申请专利范围第2项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂为Li2O-B2O3-(Si, Ti)O2系。 9.如申请专利范围第8项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂包含选自Al2O3及ZrO2之至少一个物质 。 10.如申请专利范围第2项之抗还原性介电陶瓷组合 物,其中该助剂为B2O3-Al2O3-XO系(其中XO系选自由BaO, SrO,CaO,MgO,ZnO及MnO所构成之群组之至少一个物质)。 11.如申请专利范围第2至10项中任一项之抗还原性 介电陶瓷组合物,在其中该助剂之含量为以全部主 要组份及副组份中之按重量计100份为准之按重量 计20份以下。 12.一单石陶瓷电容器,其包括多个介电陶瓷层,介 电陶瓷层间所形成之内部电极,与内部电极相电气 连接之外部电极,其特征在于该等介电陶瓷层皆由 根据申请专利范围第1至11项中任一项所述之介电 陶瓷组合物制成,每个内部电极则含有一基础金属 作为其主要组份。 13.如申请专利范围第12项之单石陶瓷容器,其中该 基础金属为镍或铜。 图式简单说明: 图1系显示一根据本发明之单石陶瓷电容器之一横 断面图。 图2系一根据本发明之陶瓷生片之一平面图。
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