| 主权项 |
1.一种记录媒体,包含有: 基板,系可于表面划分以第1长度之最短坑长规定 之相位坑列者;及 磁性膜,系于前述基板表面依据大于前述第1长度 之第2长度之最短标志长规定记录标志列者。 2.如申请专利范围第1项之记录媒体,其中前述最短 标志长系设定为前述最短坑长之整数倍。 3.如申请专利范围第1项之记录媒体,其中在前述基 板至少含有前述相位坑列之领域中,利用相对于与 测定用光束正交之基准平面,环绕通过前述测定用 光束之投射位置之切线并倾斜20度旋转角之姿势 所测定之单程第1双折射値,及利用相对于前述基 准平面,环绕通过前述测定用光束之投射位置之半 径线并倾斜20度旋转角之姿势所测定之单程第2双 折射値之差系设定为小于25nm。 4.如申请专利范围第1项之记录媒体,其中前述相位 坑列中相位坑之光学深度范围在读取资讯时所使 用之读取用光束之波长以表示时系设定为0.14 ~0.25。 5.如申请专利范围第1项之记录媒体,其中邻接之前 述相位坑列间之间隔范围系设定为1.0m ~ 1.2m, 且前述最短坑长范围系设定为0.55m ~ 0.65m。 6.如申请专利范围第1项之记录媒体,更包含有使镜 面面对前述相位坑列及记录标志列之反射膜,且于 前述相位坑列中之相位坑外自镜面反射之光之反 射率范围系设定为14% ~ 24%。 7.如申请专利范围第1项之记录媒体,系依据前述相 位坑列至少记录声音资讯及影像资讯中之任一者, 且依据前述记录标志列记录声音资讯者。 8.一种记录媒体,包含有: 基板,系可于表面划分相位坑列者;及 磁性膜,系于前述基板之表面依据磁化之方向规定 记录标志者, 又,特定利用相对于与测定用光束正交之基准平面 ,呈环绕通过前述测定用光束之投射位置之切线并 倾斜20度旋转角之姿势的基板所测定之单程第1双 折射値,及利用相对于前述基准平面,呈环绕通过 前述测定用光束之投射位置之半径线并倾斜20度 旋转角之姿势的基板所测定之单程第2双折射値, 且在读取资讯时所使用之读取用光束之波长以 表示时,于相位坑列中相位坑之光学深度Pd[]与 前述第1及第2双折射値之差d[nm]之间成立: |
