| 发明名称 |
Method for homogenizing the exposure of the different beams in a multi beam plotter |
| 摘要 |
Disclosed are methods and apparatus for homogenizing the exposure of different beams in a multi beam-plotter. The plotter typically operates on films or plates.
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| 申请公布号 |
US6961146(B1) |
申请公布日期 |
2005.11.01 |
| 申请号 |
US20000717390 |
申请日期 |
2000.11.22 |
| 申请人 |
CREO IL LTD |
发明人 |
ELIOR ARIEL;WEISS ALEX;VASHDI SHMUEL |
| 分类号 |
G06F15/00;(IPC1-7):G06F15/00 |
主分类号 |
G06F15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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