PLATEN OF CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING APPARATUS,申请号KR20040028616-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	PLATEN OF CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING APPARATUS
摘要
申请公布号	KR20050103358(A)	申请公布日期	2005.10.31
申请号	KR20040028616	申请日期	2004.04.26
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.	发明人	KIM, HYOUNG KUK;HONG, JIN SUK;CHU, KI YEON
分类号	H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
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