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发明名称 LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND VARIABLE ATTENUATOR
摘要
申请公布号 SG115769(A1) 申请公布日期 2005.10.28
申请号 SG20050001615 申请日期 2005.03.17
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 VOORMA HARM-JAN;VAN DIJSSELDONK, ANTONIUS JOHANNES JOSEPHUS;MICKAN, UWE
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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