| 发明名称 |
PLASMA ETCHING METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG115528(A1) |
申请公布日期 |
2005.10.28 |
| 申请号 |
SG20030001494 |
申请日期 |
2003.03.25 |
| 申请人 |
ADAPTIVE PLASMA TECHNOLOGY CORPORATION |
发明人 |
KIM, NAM HUN |
| 分类号 |
H05H1/00;H01J37/32;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/461;H01L21/00 |
主分类号 |
H05H1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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