发明名称 Positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung auf Siliconbasis vom chemischen Amplifizierungstyp
摘要
申请公布号 DE10393820(T5) 申请公布日期 2005.10.27
申请号 DE20031093820T 申请日期 2003.12.01
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 HIRAYAMA, TAKU;YAMADA, TOMOTAKA;KAWANA, DAISUKE;TAMURA, KOUKI;SATO, KAZUFUMI
分类号 C08G77/04;C08L83/06;G03F7/004;G03F7/075;(IPC1-7):G03F7/11;C08G77/14;H01L21/027 主分类号 C08G77/04
代理机构 代理人
主权项
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