光致抗蚀剂基材及其精制方法、和光致抗蚀剂组合物

摘要

由下述通式(1)表示的远紫外光反应性有机化合物构成的光致抗蚀剂基材。通式(1)，[式中，A是由碳原子数1～50的脂肪族基、碳原子数6～50的芳香族基、同时含有上述脂肪族基以及芳香族基的有机基团或者重复这些基团的环状结构的有机基团构成的中心结构，B、C以及D是远紫外光反应性基、对于远紫外光的活性的预色作用具有反应性的基、或者含有这些反应性基的碳原子数1～50的脂肪族基、碳原子数6～50的芳香基、同时含有上述脂肪族基以及芳香族基的有机基团、由分枝结构构成的取代基，X、Y以及Z为单键或者醚键，l、m以及n为满足l+m+n≥1的0～5的整数，A、B、C以及D还可以包括具有杂原子的取代基。]。

主权项

1.由下述通式(1)表示的远紫外光反应性有机化合物构成的光致抗蚀剂基材，式中，A是由碳原子数1～50的脂肪族基、碳原子数6～50的芳香族基、同时含有上述脂肪族基以及芳香族基的有机基团或者重复这些基团的环状结构的有机基团构成的中心结构，B、C以及D是相互独立的远紫外光反应性基、对于远紫外线的活性的预色作用具有反应性的基、或者含有这些反应性基的碳原子数1～50的脂肪族基、碳原子数6～50的芳香基、同时含有上述脂肪族基以及芳香族基的有机基团、由分枝结构构成的取代基，X、Y以及Z为互相独立的单键或者醚键，1、m以及n为相互独立地满足1+m+n≥1的0～5的整数，A、B、C以及D还可以包括具有杂原子的取代基。