光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法

摘要

本发明提供这样一种光刻胶用剥离液，其中含有(a)氢氧化四丁基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化甲基三丁基铵、氢氧化甲基三丙基铵等季铵氢氧化物、(b)水溶性胺、(c)水、(d)防腐蚀剂、以及(e)水溶性有机溶剂，(a)成分与(b)成分的配合比例为(a)成分∶(b)成分＝1∶3～1∶10(质量比)。另外还提供使用该剥离液的光刻胶剥离方法。本发明的剥离液对于Al和Cu等金属布线的防腐蚀性、以及对于光刻胶膜和灰化残渣物、金属淀积物的剥离性优良。另外，对于Si类残渣物的剥离性和对于基板(特别是Si基板内面)的防腐蚀性也优良。

主权项

1.一种光刻胶用剥离液，其中含有(a)下述通式(I)表示的季铵氢氧化物、(b)水溶性胺、(c)水、(d)防腐蚀剂、以及(e)水溶性有机溶剂，(a)成分与(b)成分的配合比例以质量比计为(a)成分∶(b)成分＝1∶3～1∶10，式中，R₁、R₂、R₃、R₄各自独立地表示烷基或羟烷基，其中，R₁、R₂、R₃、R₄中的至少1个表示碳原子数为3以上的烷基或羟烷基。