发明名称 | 聚噻吩纳米复合胶体分散体系及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明属高分子材料技术领域,具体为一种新型聚噻吩纳米复合胶体分散体系及其制备方法,以及将该胶体分散体系制备成纳米薄膜的方法。该胶体分散体系的原始单体为聚噻吩衍生物,加入去离子水、高分子聚阴离子电解质、醇类、氧化剂,经高速气流冲击,搅拌,形成气泡均相体系;反应结束后,再超声波分散,形成稳定的胶体分散体系。将该胶体分散体系用旋涂法重复涂布于基板上,自组装形成薄膜。该薄膜具有优异的导电性能,大大扩展了其应用范围。 | ||
申请公布号 | CN1687175A | 申请公布日期 | 2005.10.26 |
申请号 | CN200510024951.3 | 申请日期 | 2005.04.07 |
申请人 | 徐良衡 | 发明人 | 徐良衡;王群英;高芸;常志远 |
分类号 | C08G61/12 | 主分类号 | C08G61/12 |
代理机构 | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人 | 陆飞;盛志范 |
主权项 | 1、一种新型聚噻吩纳米复合胶体分散体系,其特征在于聚合体系的原始单体结构如下:或其中R1和R2为氢或是C1-C14的直链或者支链烷基,X为C1-C12直链或支链的烷基;并采用下述方法制备获得:将聚噻吩衍生物单体加入到去离子水中,随后加入高分子聚阴离子电解质及醇类物质,气流冲击搅拌形成微小的气泡均相体系,并加入氧化剂;用酸碱调解剂调解体系pH值,同时搅拌,反应;反应结束后对体系进行超声波分散,使反应体系形成稳定的胶体分散体系,胶体体系中分散粒子最大直径小于100nm;其中:反应体系去离子水溶液中水的重量百分比为5-30%;聚噻吩衍生物单体与高分子聚阴离子电解质的重量比例范围为1∶1.5-1∶5,聚噻吩衍生物单体与加入的氧化剂摩尔比为1∶2~1∶4;气流冲击搅拌速率为6000~20000rpm;调节反应体系pH值为1.0~5.0;搅拌反应温度为15-70℃;反应持续时间为5~30h;超声波分散持续时间为1-5h。 | ||
地址 | 200437上海市邯郸路98号无锡大厦15楼 |