发明名称 在发光二极管中制备光子晶体的方法及其装置
摘要 在发光二极管中制备光子晶体的方法及其装置,涉及一种发光二极管,提供一种成本低、速度快,用全息的方法制备光子晶体掩膜层的方法及其装置。设有激光器,扩束滤波器设于激光器输出光轴上,准直透镜设于扩束滤波器输出光轴上,衍射光学元件设有3个相同的透射光栅,衍射光学元件设于准直透镜的平行光束上,光刻胶层涂于发光二极管芯片表面,设于光栅的3束一级衍射光相遇的干涉区域。其步骤为开启激光器,从激光器射出的光经扩束滤波器扩束滤波和准直透镜准直后成为一束平行光,平行光照射在衍射光学元件上;在3束光相遇的干涉区域放置表面涂有光刻胶层的发光二极管芯片;经全息记录采用的曝光和显影,将干涉图记录到光刻胶层中;再刻蚀。
申请公布号 CN1688032A 申请公布日期 2005.10.26
申请号 CN200510078438.2 申请日期 2005.06.10
申请人 厦门大学 发明人 张向苏;刘守;刘影
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 厦门南强之路专利事务所 代理人 马应森
主权项 1、在发光二极管中制备光子晶体的装置,其特征在于设有:激光器;扩束滤波器,设于激光器的输出光轴上,用于对激光器射出的光扩束与滤波;准直透镜,设于扩束滤波器的输出光轴上,用于对经扩束的激光准直,形成一束平行光;衍射光学元件,衍射光学元件设有3个相同的透射光栅,其余区域为不透明,3个相同的透射光栅分别间隔120°,衍射光学元件设于准直透镜的平行光束上,并相对光轴成对称排列;光刻胶层,涂于发光二极管芯片表面,设于衍射光学元件的3个透射光栅的3束一级衍射光相遇的干涉区域。
地址 361005福建省厦门市思明南路422号