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发明名称 METHOD FOR FORMING AN ACTIVE REGION IN A SEMICONDUCTOR FABRICATION PROCESS
摘要
申请公布号 KR20050102001(A) 申请公布日期 2005.10.25
申请号 KR20040027262 申请日期 2004.04.20
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 BAE, KYUNG JIN
分类号 H01L21/76;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
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