发明名称 光学低通滤波镜之制造方法
摘要 提供生产效率佳的光学低通滤波镜之制造方法,能够以高分子薄膜和双折射板之间不会存在气泡而制造良率佳的方式在双折射板上贴合高分子薄膜。一种光学低通滤波镜之制造方法,系属于在硬质的第1双折射板1和硬质的第2双折射板3之间,夹着高分子薄膜(film)2而成的光学低通滤波镜之制造方法,其中,具有:将前记第1双折射板1贴合在前记高分子薄膜2之第1贴合工程;及在第1贴合工程后,在真空气氛下将前记第2双折射板3压着至前记高分子薄膜2上的第2贴合工程。
申请公布号 TWI242082 申请公布日期 2005.10.21
申请号 TW093110542 申请日期 2004.04.15
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 原和弘;有贺大助;沟口健一
分类号 G02B5/30 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光学低通滤波镜之制造方法,系属于在硬质的第1双折射板和硬质的第2双折射板之间,夹着高分子薄膜(film)而成的光学低通滤波镜之制造方法,其特征为,具有:将前记第1双折射板贴合在前记高分子薄膜之第1贴合工程;及在第1贴合工程后,在真空气氛下将前记第2双折射板压着至前记高分子薄膜上的第2贴合工程。2.如申请专利范围第1项之光学低通滤波镜之制造方法,其中,前记第2贴合工程,是在真空气氛下,先令贴合有前记高分子薄膜的前记第1双折射板和前记第2双折射板彼此离间而令前记高分子薄膜和前记第2双折射板呈面对面配置后,再令前记高分子薄膜和前记第2双折射板彼此接近,将它们进行压着。3.如申请专利范围第1项之光学低通滤波镜之制造方法,其中,前记第2贴合工程是在真空气氛下,令贴合有前记高分子薄膜的前记第1双折射板或第2双折射板之一方,被保持在上下升降且常时往上方弹拨的诱导装置上,再令其与被配置在位于其下方之下侧压着板上的前记第1双折射板或前记第2双折射板之另一方彼此离间而令前记高分子薄膜和前记第2双折射板呈面对面配置后,令上侧压着板降下而使被保持在前记诱导装置内的前记第1双折射板或第2双折射板之一方抵抗前记诱导装置之弹拨力而降下,藉由前记上侧压着板使得前记高分子薄膜和前记第2双折射板彼此接近,而使前记第1双折射板、前记高分子薄膜以及前记第2双折射板在前记上侧压着板和前记下侧压着板之间夹紧压着。4.如申请专利范围第1项至第3项之任一项所记载之光学低通滤波镜之制造方法,其中,前记第2贴合工程是在已加热的上下压着板之间夹紧压着。5.如申请专利范围第1项之光学低通滤波镜之制造方法,其中,前记第1贴合工程,是在真空气氛下将前记第1双折射板压着至前记高分子薄膜。6.如申请专利范围第1项至第3项之任一项所记载之光学低通滤波镜之制造方法,其中,具有:对前记第2贴合工程所制造的光学低通滤波镜一边加热一边施加压力之加压处理工程。7.如申请专利范围第1项至第3项之任一项所记载之光学低通滤波镜之制造方法,其中,前记真空气氛系在500Pa至1Pa之范围内。8.如申请专利范围第1项至第3项之任一项所记载之光学低通滤波镜之制造方法,其中,前记压着的加压力是在1969600Pa至4596000Pa之范围内。9.如申请专利范围第4项之光学低通滤波镜之制造方法,其中,前记第2贴合工程中的加热温度是在30℃至80℃之范围内。10.如申请专利范围第1项至第3项之任一项所记载之光学低通滤波镜之制造方法,其中,在前记第1贴合工程后,在真空气氛下将前记第2双折射板压着至前记高分子薄膜的第2贴合工程中,在下侧压着板和双折射板之间,或/及在上侧压着板和双折射板之间,夹着缓冲材而进行压着。图式简单说明:
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