| 主权项 |
1.一种基板传送装置,系配合一基板,包括:一基座;一具有一支撑轴及一转轴座之转轴单元,其中该支撑轴之一端枢接于该转轴座上,且该转轴座固设于该基座上,用以支撑并控制该支撑轴之转动;以及一基板承载单元,固设于该支撑轴之另一端,而为该支撑轴所支撑,该基板承载单元包含一与该支撑轴连接之承载底座、复数个位于该承载底座表面之第一支撑元件、一位于该承载底座相对于该支撑轴之另一侧之承载顶座、复数个位于该承载顶座内侧之第二支撑元件、以及至少一夹置于该承载顶座与该承载底座间之可伸缩元件;其中,该承载顶座表面具有复数个真空吸嘴,用以吸附该基板;该可伸缩元件调整该承载顶座与该承载底座之间距,以使该第一支撑元件位于该承载底座与该承载顶座之间,或使该第一支撑元件穿过该承载顶座而突出于该承载顶座表面,以支撑该基板;其中,该转轴座可经由控制该支撑轴之转动而控制该基板承载单元之倾斜角度。2.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该基座为可移动基座。3.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该第一支撑元件为顶针(pin),以支撑该基板。4.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该第二支撑元件具有复数个滚轮(roller),以支撑或传送该基板。5.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其更包含复数个浮动式固定架装设于该第二支撑元件与该承载顶座内部相接位置。6.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该可伸缩元件为伸缩汽缸。7.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该真空吸嘴内部通有氮气,以控制该真空吸嘴内部之压力。8.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其更包含复数组设于该承载顶座周围之定位传送元件,用以导正该基板之位置。9.如申请专利范围第8项所述之基板传送装置,其中该至少一定位传送元件具有一齿型皮带、一组带动该齿型皮带滚动之主动轮与从动轮、一带动主动轮转动之马达、与复数个固设于该齿型皮带之定位轮。10.如申请专利范围第8项所述之基板传送装置,其更包含复数个气缸控制介于该定位传送元件与该承载顶座之距离。11.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其更包含一真空细缝于该承载顶座表面,并相对于该基板之周缘,以检测该基板上之缺陷。12.如申请专利范围第11项所述之基板传送装置,其中该承载顶座上之该真空细缝与相对于该基板边缘位置之该些真空吸嘴系整合为一体。13.如申请专利范围第3项所述之基板传送装置,其中该第一支撑元件系均匀分布于该基板之一侧面。14.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该转轴单元更包含一马达与该支撑轴相连,用以提供该基板承载单元运动时所需要之动力。15.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该转轴单元更包含一限制孔于该转轴座上,用以限制基板承载单元之倾斜角度。16.如申请专利范围第1项所述之基板传送装置,其中该基座更包含一垂直地面之移动定位单元或一可旋转之移动定位单元,以控制并调整基板传送装置之高度或转动角度。图式简单说明:图1a系习知机械手臂之立体图。图1b系习知支撑架叉承载基板之示意图。图2系本发明基板传送装置一较佳实施例之组合立体图。图3系图2中该较佳实施例之组合剖视图。图4系本发明一较佳实施例之基板承载单元分解立体图。图5a~5c系本发明一较佳实施例之剖视作动图。图6系本发明一较佳实施例之第二支撑元件立体图。 |
