| 主权项 |
1.一种(甲基)丙烯酸1-烷基-1-二环己酯化合物,其系 具有下列化学式1之结构: [化学式1] 其中R系为一乙基官能基,R*系为一氢或甲基官能基 。 2.一种制备如申请专利范围第1项所述之化学式1之 (甲基)丙烯酸1-烷基-1-二环己基酯之制程,该制程 至少包含下列步骤: a)让二环己基酮(dicyclohexyl ketone)与一烷基格林纳 试剂(grignard reagent)或烷基锂试剂反应,以制备1-烷 基-1-二环己基醇(1-alkyl-1-dicyclohexyl alcohol);及 b)让步骤a)所制备而成之1-烷基-1-二环己基醇与(甲 基)丙烯醯氯((meth)acryloyl chloride)反应。 3.一种5-冰片烯-2-羧酸2-烷基-2-二环己脂化合物,其 系具有下列化学式2之结构: [化学式2] 其中R系为一乙基官能基,R*系为一氢或甲基官能基 。 4.一种制备如申请专利范围第3项所述之化学式2之 5-冰片烯-2-羧酸2-烷基-2-二环己酯之制程,其中该5- 冰片烯-2-羧酸2-烷基-2-二环己酯系藉由申请专利 范围第1项所述之化学式1之(甲基)丙烯酸1-烷基-1- 二环己基酯与环戊二烯(cyclopentadiene)进行狄尔斯- 艾德耳(Diels-Alder)反应所制备而成。 5.一种感光性共聚合物,其系具有下列化学式3之结 构: [化学式3] 其中R系为一乙基官能基,R*系为一氢或甲基官能基 ,而n系为介于20至25间之一整数。 6.一种制备如申请专利范围第5项所述之化学式3之 感光性共聚合物之制程,该制程至少包含如申请专 利范围第3项所述之化学式2之化合物与顺-丁烯二 酸酐(maleic anhydirde)进行聚合反应之步骤。 7.一种感光性三聚物,其系具有下列化学式4之结构 : [化学式4] 其中R系为一乙基官能基;R*系为一氢或甲基官能基 ;R'系为一氢及一烷基或羟基烷基官能基;R"系为一 氢或一甲基官能基;而m与n系均满足m+n=1且0.1<m<0.9 及0.1<n<0.9的条件。 8.一种制备如申请专利范围第7项所述之化学式4之 感光性三聚物之制程,该制程至少包含如申请专利 范围第1项所述之化学式1之化合物与顺-丁烯二酸 酐及化学式6所示之冰片烯(norbornene)进行聚合反应 之步骤, [化学式6] 其中R'系为一氢及一烷基或羟基烷基官能基;R"系 为一氢或一甲基官能基。 9.一种感光性三聚物,其系具有下列化学式5之结构 : [化学式5] 其中R系为一乙基官能基;R*系为一氢或甲基官能基 ;R'系为一氢、一烷基或羟基烷基官能基;R"系为一 氢或一甲基官能基;而m与n系均满足m+n=1且0.1<m<0.9 及0.1<n<0.9的条件。 10.一种制备如申请专利范围第9项所述之化学式5 之感光性三聚物之制程,该制程至少包含让如申请 专利范围第3项所述之化学式2之化合物与顺-丁烯 二酸酐及化学式7所示之丙烯酸酯(acrylate)进行聚 合反应步骤, [化学式7] 其中R'系为一氢及一烷基或羟基烷基官能基;R"系 为一氢或一甲基官能基。 11.一种用于ArF之化学式增强正光阻组合物,该组合 物至少包含1%至30%之一或多种选自由化学式3之感 光性共聚合物、化学式4之感光性三聚物及化学式 5之感光性三聚物所组成之群组中之聚合物: [化学式3] [化学式4] [化学式5] 其中R系为一乙基官能基;R*系为一氢或甲基官能基 ;R'系为一氢及一烷基或羟基烷基官能基;R"系为一 氢或一甲基官能基;而m与n系均满足m+n=1且0.1<m<0.9 及0.1<n<0.9的条件。 12.如申请专利范围第11项所述之正光阻组合物,其 中该光阻组合物更包含一光酸产生剂(photoacid generator),该光酸产生剂占全部组合物之含量系为0. 5至10重量百分比。 13.如申请专利范围第12项所述之正光阻组合物,其 中该光酸产生剂系选自盐(onium salts)、有机磺酸 (organic sulfonic acids)及其之混合物之群组。 14.如申请专利范围第11项所述之正光阻组合物,其 中该光阻组合物更包含一有机硷类,该有机硷类系 选自三乙基胺、三异丁基胺、三异辛基胺、二乙 醇胺、三乙醇胺及其之混合物之群组,其中该有机 硷类占全部组合物之含量系为0.01至2.00重量百分 比。 图式简单说明: 第1图系说明本发明第7实例之阻剂图案; 第2图系说明先前COMA-形式阻剂之图案结果; 第3图系说明本发明第5实例至第7实例对氧化物抗 蚀刻性结果; 第4图系说明先前COMA形式阻剂对聚合物之抗蚀刻 性结果。 |
