| 主权项 |
1.一种光资讯记录媒体,其系在具有轨迹间距200~400 nm、沟深度20~150nm之沟槽的基板上依序具有光反射 层、含有藉由波长450nm以下之雷射光可记录资讯 的色素之记录层、黏合层、与厚度0.01~0.5nm之表层 的光资讯记录媒体,其中该光资讯记录媒体之表层 侧表面以大面积测定时中心面之平均粗度(SRa1)为3 .0nm以下,且以微小面积测定时中心面平均粗度(SRa2 )为3.0nm以下; 其中该以大面积测定时之中心平均粗度(SRa1)系使 用光干涉式表面粗度计(即WYKO公司制之数位光学 轮廓机:HD-2000),在物镜:50、中间透镜:0.5、及测定 范围:242m184m之条件下,测量被测定表面,并对 测量结果作倾斜修正及圆筒修正而得到基础数据, 再由该基础数据算出中心面平均粗度(SRa1:单位nm); 该以微小面积测定时之中心面平均粗度(SRa2)系使 用原子间力显微镜(AFM)所得到的中心平均粗度,即 由使用精工仪器公司制SPA500,在AFM型(接触型)测定 用探针:SIAF01(弹簧系数:0.1N/m)、各边10m的正方形 测定范围内,扫描线:512512、及扫描速度:2Hz之条件 下,测量被测定表面所得数据之算出。 2.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中在 表层上另具有至少含有1层放射线硬化型树脂之表 涂层。 3.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中基 板系至少含有一种选自于玻璃、聚碳酸酯、丙烯 酸树脂、聚氯乙烯、氯乙烯系树脂、环氧树脂、 非晶形聚烯烃、聚酯、铝者。 4.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中在 设有光反射层侧之基板表面上具有底涂层。 5.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中光 反射层至少含有一种选自于Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf 、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh 、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、 Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi及不锈钢之光反射性物质。 6.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中记 录层所含色素之极大吸收波长为400nm以下。 7.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中记 录层所含色素系选自于蓝、氧杂菁色素、金 属错合物系色素、偶氮色素、及菁色素。 8.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中表 层至少含有一种选自于聚碳酸酯、三醋酸纤维素 、及聚对酸乙二酯之材质。 9.如申请专利范围第1项之光资讯记录媒体,其中表 层侧表面以大面积测定时中心面之平均粗度(SRa1) 为1.5 nm以下,且以微小面积测定时中心面平均粗度 (SRa2)为1.5nm以下。 10.如申请专利范围第2项之光资讯记录媒体,其中 表涂层所含的放射线硬化型树脂选自于丙烯酸酯 化合物、丙烯醯胺类、甲基丙烯酸酯化合物、甲 基丙烯醯胺、乙烯醚类、及乙烯酯类。 11.一种光资讯记录媒体,其系在具有轨迹间距200~ 400nm、沟深度20~150nm之沟槽的基板上依序具有光反 射层、含有藉由波长450nm以下之雷射光可记录资 讯的色素之记录层、黏合层、与厚度0.01~0.5nm之表 层的光资讯记录媒体,其中表层表面上每30m2中 存在有15个以上高20nm以上之突起,且该高20nm以上 之突起中存在有1~5个高100nm以上之突起。 12.如申请专利范围第11项之光资讯记录媒体,其中 基板系至少含有一种选自于玻璃、聚碳酸酯、丙 醯酸树脂、聚氯乙烯、氯乙烯系树脂、环氧树脂 、非晶形聚烯烃、聚酯、铝者。 13.如申请专利范围第11项之光资讯记录媒体,其中 在设有光反射层侧之基板表面上具有底涂层。 14.如申请专利范围第11项之光资讯记录媒体,其中 光反射层至少含有一种选自于Mg、Se、Y、Ti、Zr、 Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、 Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si 、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi及不锈钢之光反射性物质 。 15.如申请专利范围第11项之光资讯记录媒体,其中 记录层所含色素之极大吸收波长为400nm以下。 16.如申请专利范围第11项之光资讯记录媒体,其中 记录层所含色素系选自于蓝、氧杂菁色素、 金属错合物系色素、偶氮色素、及菁色素。 17.如申请专利范围第11项之光资讯记录媒体,其中 表层至少含有一种选自于聚碳酸酯、三醋酸纤维 素、及聚对酸乙二酯之材质。 18.如申请专利范围第11项之光资讯记录媒体,其中 表层表面上每30m2中存在有15~100个高20nm以上之 突起,且该高20nm以上之突起中存在有1~4个高100nm以 上之突起。 19.一种光资讯记录媒体,其系在具有轨迹间距200~ 400nm、陆地高度20~100nm、陆地宽度80~220nm之陆地的 基板上依序具有光反射层、含有有机色素之记录 层、保护层、且该保护层之厚度为75~130m之表层 的光资讯记录媒体,其特征为通过保护层,使用450nm 以下雷射光及数値孔径(NA)为0.7以上之物镜,在陆 地上进行记录再生。 20.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 该基板具有陆地之轨迹间距为260~340nm、陆地高度 为30-80nm、陆地宽度为120~ 180 nm。 21.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 基板至少含有一种选自于聚碳酸酯、丙烯酸树脂 、聚氯乙烯、氯乙烯系树脂、环氧树脂、非晶形 聚烯烃、聚酯者。 22.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 在设有光反射层侧之基板表面上具有底涂层。 23.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 光反射层至少含有一种选自于Mg、Se、Y、Ti、Zr、 Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、 Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si 、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi及不锈钢之光反射性物质 。 24.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 记录层所含的色素系选自于菁系色素、苯并三 唑系色素、及胺基丁二烯系色素。 25.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 保护层具有在记录层上经由黏合剂层设置表层薄 膜之二层构造。 26.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 保护层系由在记录层上设置硬化型树脂,予以硬化 所成。 27.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 在记录层一面或双面上另具有溅镀层。 28.如申请专利范围第19项之光资讯记录媒体,其中 在保护层上另具有补助保护层。 图式简单说明: 第1图系为本发明光资讯记录媒体之第4形态中,陆 地之垂直于延长方向的面上基板截面的简略截面 图。 |
