| 主权项 |
1.一种微影投影装置,包括: 一建构以用于供应放射投影束之放射系统; 一备有一用于支撑遮罩之遮罩支架的第一物件台; 一备有一用于支撑基体之基体支架的第二物件台; 一建构并安排以用于将遮罩之放射部份映像至基 体之目标部份之投影系统; 一真空室,具有一个圈围住至少该第一与第二物件 台之一的壁,该真空室壁中具有一孔; 一建构及安排以用于密封该孔之可移动密封构件; 一建构及安排以用于支撑该密封元件构件及在该 密封构件及该真空室壁间维持一间隙的轴承,该轴 承包括: 一适于用以提供加压气体至该间隙以产生可保持 该密封构件与该真空室壁分离之气体轴承之力量; 以及 一与该气体承轴分离之排放系统,建构及安排成将 该气体自该间隙移除。 2.如申请专利范围第1项之装置,其中该密封构件包 含一可以平行于该真空室壁之方向移动的密封板; 及该气体轴承与排放系统被提供于该真空室壁内 以包围该孔。 3.如申请专利范围第1项之装置,尚包含一导管,用 于提供该间隙与一气体库之间的流体通连,其压力 高于该真空室之压力并小于该经加压气体之压力 。 4.如申请专利范围第3项之装置,其中该导管在一定 义该间隙之表面上包含一延长凹槽。 5.如申请专利范围第1项之装置,其中该间隙在形成 该气体轴承之气体供应点与排放系统之间的距离 大于排放系统与邻近真空室之间的距离。 6.如申请专利范围第1项之装置,其中该排放系统包 含一延长真空凹槽在一定义该间隙之表面上;一真 空帮浦;以及连接该延长真空凹槽与该真空帮浦之 真空导管。 7.如申请专利范围第6项之装置,其中该排放系统尚 包含至少一第二延长真空凹槽,其实质平行于该延 长真空凹槽并提供于相较于该气体轴承之另外一 边,一第二真空帮浦以及连接该第二延长真空凹槽 与该第二真空帮浦之真空导管,该第二真空导管可 制造一较真空导管更深之真空。 8.如申请专利范围第1项之装置,其中该气体轴承包 含一延长凹槽于一定义该间隙之表面上;以及气体 供应导管,其被建构用于在该延长凹槽之压力下供 应气体。 9.如申请专利范围第1项之装置,其中该气体轴承包 含多个互相分离之凹陷于定义该间隙之一表面上, 该凹陷为多孔材料所填充;以及建构以用于在该凹 陷之压力下供应气体之气体供应导管。 10.如申请专利范围第1项之装置,尚包含: 一通过该孔之支撑柱; 其中该密封构件包含一座部,可相对于该真空室壁 移动于至少一自由角度,及一轴环,可相对于该座 部移动于至少一自由角度,该轴环支撑该支撑柱; 其中该轴承系适于藉由提供加压气体至该座部与 该真空室壁间的一间隙,用以支承相关于该真空室 壁之该座部,并用以自该座部及该真空室壁间的间 隙移除气体;及 其中该轴承系适于藉由提供加压气体至该轴环与 该座部间的一间隙,用以支承相关于该座部之该轴 环,并用以自该轴环及该座部间的间隙移除气体。 11.如申请专利范围第10项之装置,其中该轴承系适 于藉由提供加压气体至该轴环与该支撑柱间的一 间隙,用以支承相对于该轴环之该支撑柱,并用以 自该轴环及该支撑柱间的间隙移除气体。 12.如申请专利范围第11项之装置,其中该座部系可 相关于该真空室墙壁移动于至少二个自由角度,该 轴环系可相对于该座部移动于至少二个自由角度, 以及该支撑柱系可相对于该轴环移动于至少二个 自由角度。 13.一种微影投影装置,包括: 一建构以用于供应放射投影束之放射系统; 一备有一用于支撑一遮罩之遮罩支架的第一物件 台; 一备有一用于支撑一基体之基体支架的第二物件 台; 一建构并安排以用于将遮罩之放射部份映像至基 体之目标部分之投影系统; 一真空室,具有一个圈围住至少该第一与第二物件 台之一的壁,该至少一物件台系可移动; 一适于在该真空室中可移动地支撑该至少一物件 台于一轴承表面的轴承,并维持一间隙于该两者间 ,该轴承包括: 一适于提供加压气体至该间隙的气体轴承,藉此产 生将该至少一物件台与该轴承表面分离之力量;及 一与该气体轴承分离之排放系统,建构及安排成将 该气体自该间隙移除,该排放系统系提供以围绕该 气体轴承。 14.如申请专利范围第13项之装置,尚包含一导管,用 于提供该间隙与一气体库之间的流体通连,其压力 高于该真空室之压力并小于该经加压气体之压力 。 15.如申请专利范围第14项之装置,其中该导管在一 定义该间隙之表面上包含一延长凹槽。 16.如申请专利范围第13项之装置,其中该间隙在形 成该气体轴承之气体供应点与排放系统之间的距 离大于排放系统与邻近真空室之间的距离。 17.如申请专利范围第13项之装置,其中该排放系统 包含一延长真空凹槽在一定义该间隙之表面上;一 真空帮浦;以及连接该延长真空凹槽与该真空帮浦 之真空导管。 18.如申请专利范围第17项之装置,其中该排放系统 尚包含至少一第二延长真空凹槽,其实质平行于该 延长真空凹槽并提供于相较于该气体轴承之另外 一边,一第二真空帮浦以及连接该第二延长真空凹 槽与该第二真空帮浦之真空导管,该第二真空导管 可制造一较真空导管更深之真空。 19.如申请专利范围第13项之装置,其中该气体轴承 包含一延长凹槽于一定义该间隙之表面上;以及气 体供应导管,其被建构用于在该延长凹槽之压力下 供应气体。 20.如申请专利范围第13项之装置,其中该气体轴承 包含多个互相分离之凹陷于定义该间隙之一表面 上,该凹陷为多孔材料所填充;以及建构以用于在 该凹陷之压力下供应气体之气体供应导管。 21.一种使用一微影投影装置以制造一元件之方法, 包含: 供应一放射投影束; 以一第一物件台的一遮罩支架支持一遮罩; 以一第二物件台的一基体支架支持一基体; 映像该遮罩的经照射部分于该基体的一目标部分 上; 以一可移动密封构件密封由该微影投影装置之一 真空室之一壁所定义之孔,该真空室壁圈围至少该 第一或第二物件台之一者; 提供一加压气体至于该密封构件及该真空室壁间 的一间隙中,用以产生保持该密封构件与该真空室 壁分离之力量; 自该间隙移除该气体;及 暴露该基体于该遮罩之一映像下。 22.如申请专利范围第21项之方法,包含使用一高于 该真空室压力并低于该加压气体压力之压力自该 间隙移除该气体。 23.根据申请专利范围第21项之方法所制作之装置 。 24.一种使用一微影投影装置以制造一元件之方法, 包含: 供应一放射投影束; 以一第一物件台的一遮罩支架支持一遮罩; 以一第二物件台之基体支架支持一基体; 映像该遮罩的经照射部分于该基体的一目标部分 上; 于一真空室中,相对于一轴承表面可移动地支承该 第一及第二物件台之至少一者; 提供一加压气体至于该轴承表面及该至少一物件 台间的一间隙中,用以产生保持将该轴承表面与该 至少一物件台分离之力量,并维持其间之该间隙; 自该间隙移除该气体;及 暴露该基体于该遮罩之一映像下。 25.如申请专利范围第24项之方法,包含使用一高于 该真空室压力并低于该加压气体压力之压力自该 间隙移除该气体。 图式简单说明: 图1显示如本发明之第一具体实施例的一种微影蚀 刻投影装置; 图2为如本发明之第二具体实施例之差异气体轴承 剖面图; 图3为图2之差异气体轴承之变种的一个计划图; 图3A是图3所示之差异气体轴承中一部份的一个放 大的剖面图; 图4为所揭示之发明之第三具体实施例之微影蚀刻 装置之晶圆级的剖面图; 图5为本发明之第四具体实施例的隔离安装之剖面 图;以及 图6为所揭示之第五具体实施例之晶圆级的剖面图 。 |
