MOUNTING FOR RETAINING SEMICONDUCTOR WAFERS IN A CHEMOMECHANICAL POLISHING DEVICE

摘要

Um einen kostengünstigeren und langlebigeren Haltering (10) zum Halten von Halbleiterwafern in einer chemisch-mechanischen Poliervorrichtung zu erhalten, wird vorgeschlagen, einen Halterring (10) zu verwenden, der einen Metallring (11) umfasst, welcher konzentrisch in diesem angeordnet ist, und im Übrigen aus Kunststoffmaterial hergestellt ist, wobei der Haltering (10) auf einer ersten Stirnseite eine Auflagefläche (18) zur Auflage des Halteringes auf einer Polieroberfläche der Poliervorrichtung bildet und auf der in Axialrichtung der ersten Stirnseite entgegengesetzt liegenden Seite Montageelemente umfasst, mittels welchen der Haltering in der Poliervorrichtung montierbar ist.