发明名称 |
用于溅射的电源装置和使用该装置的溅射设备 |
摘要 |
本发明提供用于溅射的电源装置,通过在放电开始压力以下实现稳定的溅射,使由于与用于溅射的惰性气体的碰撞产生的溅射粒子的散射减少,可以改善阶梯覆盖度和改善溅射膜的致密性。按照本发明,提供用于溅射的电源装置,它包括溅射用直流电源(A),与该直流电源连接的恒流电路(B),与该恒流电路(B)连接的溅射源(21),和进行控制使从恒流电路(B)输出的电流变为恒定电流的控制部分(11)。 |
申请公布号 |
CN1223698C |
申请公布日期 |
2005.10.19 |
申请号 |
CN98802718.6 |
申请日期 |
1998.02.19 |
申请人 |
芝浦机械电子装置股份有限公司 |
发明人 |
栗山升;谷津丰;宇都宫信明;安本裕二 |
分类号 |
C23C14/34;C23C14/54;H01L21/203;H01L21/285 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
余朦;穆德骏 |
主权项 |
1.一种用于溅射的电源装置,它包括:溅射用直流电源和溅射源,其特征在于,还包括:与该直流电源连接的恒流电路,该恒流电路与溅射源连接;电流检测器,其两端与控制部分连接,用于检测恒流电路中流动的电流值,并将其送到控制部分,以及控制部分,根据上述电流检测器的输出进行控制,使从所述恒流电路输出的电流使之成为恒定电流。 |
地址 |
日本神奈川县 |