| 发明名称 | 热处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明是备有在上端具有开口部的加热炉本体、由收容在上述加热炉本体内部的单一的管子构成的反应管、在上述反应管上部窄径状地形成的排气部件连接部、收容在上述加热炉本体内部，用于支持被处理基板的被处理基板支持部件、和用于加热由上述被处理基板支持部件支持的被处理基板的加热部件的热处理装置。上述加热部件具有配置在上述反应管周围的第1加热部、配置在上述排气部件连接部周围的第2加热部、配置在上述反应管上方部周围的第3加热部、配置在上述反应管下方部周围的第4加热部、和配置在上述被处理基板支持部件下部的第5加热部。 | ||
| 申请公布号 | CN1685477A | 申请公布日期 | 2005.10.19 |
| 申请号 | CN03822715.0 | 申请日期 | 2003.08.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 斋藤孝规;山贺健一;中尾贤 |
| 分类号 | H01L21/22;H01L21/31 | 主分类号 | H01L21/22 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种热处理装置，其特征在于，包括：在上端具有开口部的加热炉本体；由收容在所述加热炉本体内部的单一的管子构成的反应管；在所述反应管上部窄径状地形成的排气部件连接部；收容在所述加热炉本体内部，用于支持被处理基板的被处理基板支持部件；和用于加热由所述被处理基板支持部件支持的被处理基板的加热部件，所述加热部件具有：配置在所述反应管周围的第1加热部；配置在所述排气部件连接部周围的第2加热部；配置在所述反应管上方部周围的第3加热部；配置在所述反应管下方部周围的第4加热部；和配置在所述被处理基板支持部件下部的第5加热部。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||