发明名称 高强度高导电性铜合金
摘要 本发明提供一种弯曲加工性优良、高强度、高导电性的电子部件用铜合金。同时具有弯曲加工性优良、高强度、高导电性的半导体仪器的电子部件用高强度高导电性铜合金,按照质量比,含有Ni:1.5%以上4.0%以下、Si:0.15%以上1.0%以下,Ni和Si的含量比Ni/Si为3以上7以下,O为0.0050%以下,剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成,其特征在于,对于Ni-Si系析出物的大小,设长径为a、短径为b时,a为20nm以上200nm以下且长宽比a/b为1以上3以下的析出物,按照在铜合金中含有的总析出物的面积率计算,占80%以上。
申请公布号 CN1683579A 申请公布日期 2005.10.19
申请号 CN200510065789.X 申请日期 2005.04.18
申请人 日矿金属加工株式会社 发明人 卫藤雅俊;大久保光浩;远藤智
分类号 C22C9/06;C22C1/02;C22F1/08 主分类号 C22C9/06
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 郭煜;庞立志
主权项 1.一种同时具有优良的强度、导电率、弯曲加工性的电子部件用高强度高导电性铜合金,按照质量比,其含有Ni:1.5%以上4.0%以下、Si:0.15%以上1.0%以下,Ni和Si的含量比Ni/Si为3以上7以下,O为0.0050%以下,剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成,其特征在于,设长径为a、短径为b时,a为20nm以上200nm以下且长宽比a/b为1以上3以下的Ni-Si系析出物,按照在铜合金中含有的总析出物的面积率计算,占80%以上。
地址 日本神奈川县