发明名称 |
高强度高导电性铜合金 |
摘要 |
本发明提供一种弯曲加工性优良、高强度、高导电性的电子部件用铜合金。同时具有弯曲加工性优良、高强度、高导电性的半导体仪器的电子部件用高强度高导电性铜合金,按照质量比,含有Ni:1.5%以上4.0%以下、Si:0.15%以上1.0%以下,Ni和Si的含量比Ni/Si为3以上7以下,O为0.0050%以下,剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成,其特征在于,对于Ni-Si系析出物的大小,设长径为a、短径为b时,a为20nm以上200nm以下且长宽比a/b为1以上3以下的析出物,按照在铜合金中含有的总析出物的面积率计算,占80%以上。 |
申请公布号 |
CN1683579A |
申请公布日期 |
2005.10.19 |
申请号 |
CN200510065789.X |
申请日期 |
2005.04.18 |
申请人 |
日矿金属加工株式会社 |
发明人 |
卫藤雅俊;大久保光浩;远藤智 |
分类号 |
C22C9/06;C22C1/02;C22F1/08 |
主分类号 |
C22C9/06 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
郭煜;庞立志 |
主权项 |
1.一种同时具有优良的强度、导电率、弯曲加工性的电子部件用高强度高导电性铜合金,按照质量比,其含有Ni:1.5%以上4.0%以下、Si:0.15%以上1.0%以下,Ni和Si的含量比Ni/Si为3以上7以下,O为0.0050%以下,剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成,其特征在于,设长径为a、短径为b时,a为20nm以上200nm以下且长宽比a/b为1以上3以下的Ni-Si系析出物,按照在铜合金中含有的总析出物的面积率计算,占80%以上。 |
地址 |
日本神奈川县 |