分布反馈型激光装置

摘要

本发明旨在提供能够抑制因制造偏差引起的光耦合系数的变动的、使制造合格率得以提高的分布反馈型激光装置，其中设有：位于InP衬底(1)上激活层(4)两侧的包覆层，以及位于任一包覆层中的、与包覆层折射率不同的、带有在光出射方向以预定间距在与该出射方向相交的方向上延伸的栈状格子的衍射光栅(6)；还至少设有一层光分布调整层(2)，该层位于与所述衍射光栅相分离的包覆层内，其成分与所述衍射光栅的相同。

主权项

1.一种分布反馈型激光装置，包括：设置在半导体衬底上的位于激活层两侧的包覆层，以及位于任一所述包覆层中的、与所述包覆层折射率不同的、带有在光出射方向以预定间距在与该出射方向相交的方向上延伸的栈状格子的衍射光栅；至少设有一层光分布调整层，该光分布调整层与所述衍射光栅相隔预定间隔位于所述包覆层内，其成分与所述衍射光栅的相同；衍射光栅膜与光分布调整层具有相同的偏差。