基板处理装置

摘要

本发明的基板处理装置以稳定而且有效地进行被处理基板的成膜处理为目的，基板处理装置把被处理基板W支撑在面对加热器部的位置，同时使保持被处理基板W的保持部件旋转，由此使被处理基板的温度分布均匀，抑制被处理基板的翘曲。处理容器的内壁由利用不透明石英形成的石英衬套覆盖，保护其不受来自紫外线光源照射的紫外线的影响并利用隔热效果抑制因来自加热器部的热造成的温度上升。由此，延长处理容器的寿命。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：处理容器，划成有内部的处理空间；紫外线光源，向所述处理空间照射紫外线；石英制成的不透明箱壳，覆盖所述处理容器的内壁地形成、在与所述紫外线光源相对的位置具有通过紫外线的开口；加热器部，将插入该不透明箱壳内部的被处理基板加热到规定温度；保持部件，将所述被处理基板保持在所述加热器部的上方；旋转驱动部件，旋转驱动贯通所述加热器部的所述保持部件的轴。