发明名称 |
铜电解质的过滤方法 |
摘要 |
本发明提供一种过滤铜电解质的方法,该方法改进了常规过滤方法即所谓的预涂布法,可以除去细小的电解副产物和污垢并提高过滤效率。让铜电解质通过预涂布过滤助剂的过滤元件,在除去会影响电解的电解副产物和污垢的铜电解质过滤过程中,本发明中,事先在过滤元件上形成过滤助剂的预涂布层。含粉末活性炭的活性炭预处理溶液通过预涂布层形成的过滤元件,并循环直到没有粉末活性炭从过滤元件出口漏出,从而在预涂布层上形成粉末活性炭层。随后使铜电解质通过进行过滤。 |
申请公布号 |
CN1223396C |
申请公布日期 |
2005.10.19 |
申请号 |
CN01801170.5 |
申请日期 |
2001.04.23 |
申请人 |
三井金属鉱业株式会社 |
发明人 |
锅仓一好;平沢裕;高桥直臣 |
分类号 |
B01D37/02;C25C1/12;C25C7/06;C25D3/38 |
主分类号 |
B01D37/02 |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
张宜红 |
主权项 |
1.一种用于除去会影响铜电解的电解副产物和污垢的铜电解质过滤方法,该方法是让铜电解质通过预涂布过滤助剂的过滤元件,该方法包括下列步骤:预先在过滤元件上形成过滤助剂的预涂布层;含粉末活性碳的活性碳预处理溶液通过具有预涂布层的过滤元件,并循环该活性碳预处理溶液,直到没有粉末活性碳从过滤元件出口漏出,从而在预涂布层上形成粉末活性碳层;随后让铜电解质通过进行过滤。 |
地址 |
日本东京 |