| 发明名称 | 利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与系统 | ||
| 摘要 | 一种利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与系统，该系统包含透镜(lens)，用来将一道预设的辐射(radiation)传递至预定的产品基材上。并且一液体(fluid volume)的第一端与此透镜接触，并透过液体的第二端与产品基材接触。该方法包括：放置一基材，该基材上方具有一辐射敏感物质，并使该辐射敏感物质与一液体的第一端接触；放置至少一透镜，使该透镜与该液体的第二端接触；以及提供波长约为或小于248nm的一电磁辐射，并使一预设辐射穿过透镜而传递至一预定基材上。其中此液体具有高于10<SUP>－7</SUP>莫耳/公升(mole/l的氢氧根离子(hydroxide ion)莫耳浓度。 | ||
| 申请公布号 | CN1683996A | 申请公布日期 | 2005.10.19 |
| 申请号 | CN200510064380.6 | 申请日期 | 2005.04.15 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 王昭雄;曾鸿辉 |
| 分类号 | G03F7/00;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一光微影系统，其特征在于其至少包括：至少一透镜，用来将预定的辐射传递至一预定基材上，该基材上方具有一辐射敏感物质；以及一液体，该液体的第一端与该透镜直接接触，该液体的第二端与该辐射敏感物质直接接触，其中该液体具有一氢氧根离子莫耳浓度，该氢氧根离子莫耳浓度大于10-7莫耳/公升。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号 | ||