发明名称 | 光记录介质 | ||
摘要 | 本发明可得到同时具有比以往高的记录特性和耐光性的光记录介质。该光记录介质是在基片上依次至少设置相变记录层、第1防扩散层、第2防扩散层和保护层而构成,其特征在于,所述第1防扩散层和第2防扩散层以非气体元素及氮和/或氧作为主成分,在所述第1防扩散层和第2防扩散层中,非气体元素是相同的,所述第2防扩散层中含有的氮和/或氧的含量(原子%)比所述第1防扩散层中含有的氮和/或氧的含量(原子%)多。 | ||
申请公布号 | CN1685414A | 申请公布日期 | 2005.10.19 |
申请号 | CN200380100135.5 | 申请日期 | 2003.10.02 |
申请人 | 三菱化学株式会社;三菱化学记录媒体 | 发明人 | 清野贤二郎;金平淳;冈室昭男 |
分类号 | G11B7/24 | 主分类号 | G11B7/24 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
主权项 | 1.光记录介质,其是在基片上依次设置反射层和相变记录层,并通过从所述相变记录层的与所述基片侧相反的侧向所述相变记录层射入激光,来进行信息的记录和再现的光记录介质,其特征在于,在所述相变记录层的与所述基片侧相反的侧,设置与所述相变记录层相接的防扩散层;设置与所述防扩散层相接的含有硫的保护层;所述防扩散层以非气体元素及氮和/或氧作为主成分,并由2层或多于2层构成,在构成所述防扩散层的2层或多于2层之中,以与所述相变记录层相接的层作为第1防扩散层、以与所述保护层相接的层作为第2防扩散层时,以原子%计,在所述第2防扩散层中含有的氮和/或氧的量比在所述第1防扩散层中含有的氮和/或氧的量多。 | ||
地址 | 日本东京 |