曝光装置、曝光方法及元件制造方法

摘要

曝光装置EX，透过从液体供应机构10所供应之液体LQ与投影光学系统PL，将曝光用光EL照射于基板P上以将基板P曝光。其具备压力调整机构90，供调整从液体供应机构10所供应之液体LQ之压力。藉此，可良好地形成液浸区域，而能获得高曝光精度及测量精度。