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发明名称
微影装置,元件制造方法,及以该方法制造之元件
摘要
本发明揭示一种微影装置。该装置包括一提供一辐射光束之辐射系统,及一支撑一图案化结构之支撑结构。该图案化结构经组态以根据所要图案来图案化该辐射光束。该装置亦包括一支撑一基板之基板支架,及一将经图案化之光束投影于该基板之一目标部分上的投影系统。该投影系统包括一具有一光束入口区域之光学部件,及一具有一光束出口区域之光学部件,其中经图案化之光束穿过每一该等光学部件。该装置进一步包括一与投影系统组合之凝核表面,其上具有复数个凝核位点。该表面系安置成远离至少该光束入口区域及该光束出口区域其中之一。
申请公布号
TW200534048
申请公布日期
2005.10.16
申请号
TW093141378
申请日期
2004.12.30
申请人
ASML公司
发明人
马克 克伦;麦克 康尼斯 范 毕克;彼得 迪克森;罗夫 克特;卡三达 枚 欧文
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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