| 摘要 |
本发明系揭露一用于产生EUV光之装置及方法，其可包含一雷射生成式电浆(LPP)极端紫外线(EUV)光源控制系统，其包括一适可输送移动的电浆引发标靶之标靶输送系统，且包括一EUV光收集光学装置，此EUV光收集光学装置具有一界定一所需要的电浆引发部位之焦点，该装置系包含：一标靶追踪及回馈系统，其包含：至少一成像部件，其提供一标靶物流轨道的一影像作为一输出，其中标靶物流轨道系导因于摄影机的成像速度过慢无法成像个别电浆形成标靶而将所成像的标靶物流形成为标靶物流轨道；一物流轨道误差侦测器，其侦测从与所需要的电浆引发部位相交之一所需要的物流轨道概括垂直于标靶物流轨道之至少一轴线中的标靶物流轨道位置中之一误差。至少一标靶交叉侦测器系可瞄准于标靶轨道并侦测一电浆形成标靶通行经过标靶轨道中的一选定点。一驱动雷射触发机构利用标靶交叉侦测器的一输出来决定一驱动雷射触发的定时，藉以使一驱动雷射输出脉冲亦概括在其最接近所需要的电浆引发部位之途径处沿着标靶轨道在一选定电浆引发部位来交会电浆引发标靶。一电浆引发侦测器可瞄准于标靶轨道并对于一各别标靶沿着一电浆引发部位的标靶轨道来侦测位置。一中间焦点照明器系可照明一形成于中间焦点上之开孔以将开孔成像在至少一成像部件中。至少一成像部件可为至少两成像部件，其各以至少两成像部件的各别一者之一影像分析为基础来提供有关标靶轨道与中间焦点的影像之垂直中轴线的分离之一误差信号。一标靶输送回馈及控制系统可包含一标靶输送单元；一标靶输送位移控制机构，其使标靶输送机构至少在一对应于得自第一成像部件中的影像分析之一第一位移误差信号之轴线中及至少在一对应于得自第二成像部件中的影像分析之一第二位移误差信号之轴线中位移。 |
