改良耐久性之含涂膜光学元件

摘要

本发明系关于涂覆氟化物晶体，其能够抵抗低于250nm紫外线雷射光束所导致之雷射损坏；制造该涂膜晶体之方法，以及使用该涂覆晶体。方法包含下列步骤：提供不含涂膜一般分子式为MF2之金属氟化物晶体，M为由铍，镁，钙，锶，钡，镭，及其混合物选取出，以及以经选择材料之涂膜涂覆不含涂膜之金属氟化物因而形成能够抵抗雷射所导致损坏之涂膜金属材料。优先涂膜材料包含MgF2，掺杂MgF2之熔融矽石以及掺杂氟之熔融矽石。