组织化-细粒-粉末冶金之钽溅射靶

摘要

本案溅射靶包括具有从固结钽粉形成的钽粒之钽体，且该钽体具有一溅射面。该机射面具有一原子传送方向用以从溅射面传送出钽原子以涂覆–基材。该钽粒在离开溅射面的原子传送方向中具有至少40％的(222)方向导向比例及低于15％的(110)方向导向比例以增加溅射均匀性，该钽体不具有以电子后向散射绕射(ElectronBack–Scattering Diffraction)可侦检到的(200)–(222)方向谱带，且其中该溅射靶具有至少99.99(％)之纯度。