发明名称 曝光装置及方法
摘要 本发明提供一种曝光装置,其包括:投影光学系统,经由充填于该投影光学系统与物件间的空间之流体将光罩的图案的影像投影至物件上;振动器部件,用于振动流体、物件及投影光学系统的至少一者;及控制器,用于控制振动器部件以使流体、物件及投影光学系统的振动的至少一者在物件的处理期间成为一容许度。
申请公布号 TW200534052 申请公布日期 2005.10.16
申请号 TW094107319 申请日期 2005.03.10
申请人 佳能股份有限公司 发明人 北冈厚志
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本