发明名称 |
抗反射薄膜之制法、抗反射薄膜、偏光板及影像显示装置 |
摘要 |
提供一种具有充分反射性能而且耐擦伤性优良的抗反射薄膜之制法,以及一种藉由制法所得到的抗反射薄膜。再者,提供具备抗反射薄膜的偏光板及影像显示装置。一种抗反射薄膜之制法,其为在透明基材上具有由至少一层所构成的抗反射层之抗反射薄膜的制法,其中透明基材上所积层的层之至少一层系由包含下述(1)及(2)的步骤之层形成方法所形成者:(1)于透明基材上涂设涂布层的步骤,(2)于比大气中的氧浓度低的氧浓度气氛下,照射电离放射线,以使该涂布层硬化的步骤。 |
申请公布号 |
TW200533951 |
申请公布日期 |
2005.10.16 |
申请号 |
TW094109240 |
申请日期 |
2005.03.25 |
申请人 |
富士照相软片股份有限公司 |
发明人 |
大谷薰明 |
分类号 |
G02B1/11;G02B1/04;G02B5/30;G09F9/00 |
主分类号 |
G02B1/11 |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂;何秋远 |
主权项 |
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地址 |
日本 |