发明名称 Acid-modified Novolak Resin, manufacturing method thereof and positive photoresist composition containing the same
摘要
申请公布号 KR100521421(B1) 申请公布日期 2005.10.14
申请号 KR20030065367 申请日期 2003.09.20
申请人 发明人
分类号 C08F14/04;(IPC1-7):C08F14/04 主分类号 C08F14/04
代理机构 代理人
主权项
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