| 发明名称 |
MASQUE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE A ELEMENTS ABSORBEURS/DEPHASEURS INCLUS |
| 摘要 |
This invention relates to an insolation mask including a transparent substrate ( 100 ) and at least one absorber/phase shifter element ( 112 ) embedded in the substrate, so as to form a monolithic assembly with the substrate. Application to photolithography. |
| 申请公布号 |
FR2839560(B1) |
申请公布日期 |
2005.10.14 |
| 申请号 |
FR20020005718 |
申请日期 |
2002.05.07 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
THONY PHILIPPE;ASPAR BERNARD;FANGET GILLES |
| 分类号 |
G03F1/00;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
