| 发明名称 |
APPARATUS FOR RINSING AND DRYING SEMICONDUCTOR WAFERS AND METHOD USING THE APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050099262(A) |
申请公布日期 |
2005.10.13 |
| 申请号 |
KR20040024511 |
申请日期 |
2004.04.09 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
KIM, HONG SEOK |
| 分类号 |
H01L21/304;B08B3/00;C23G1/00;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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