发明名称 Herstellungsverfahren für einen Grabenkondensator mit Isolationskragen
摘要 Die vorliegende Erfindung schafft einen Grabenkondensator, insbesondere zur Verwendung in einer Halbleiter-Speicherzelle, mit einem Graben (5), der in einem Halbleitersubstrat (1) gebildet ist; einem Isolationskragen (3) im oberen Bereich des Grabens (4); einer im Graben (5) oder im Halbleitersubstrat (1) befindlichen ersten leitenden Kondensatorelektrode (1a); einer im Graben (5) befindlichen leitenden zweiten Kondensatorelektrode (10, 25, 30), einen unteren nicht-metallischen Teil (10) und einen oberen metallischen Teil (30) aufweist, wobei sich der obere metallische Teil (30) bis in den Bereich zwischen dem Isolationskragen (3) erstreckt; einer zwischen der ersten und zweiten Kondensatorelektrode (1a; 10, 25, 30) befindlichen dielektrischen Schicht (4) als Kondensatordielektrikum. Zwischen dem unteren nicht-metallischen Teil (10) und dem oberen metallischen Teil (30) befindet sich ein Teil (25) aus einem Metallsilizid. Die Erfindung schafft ebenfalls ein entsprechendes Herstellungsverfahren.
申请公布号 DE102004012855(A1) 申请公布日期 2005.10.13
申请号 DE200410012855 申请日期 2004.03.16
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SEIDL, HARALD
分类号 H01L21/334;H01L21/8242;H01L27/108;H01L29/94;(IPC1-7):H01L21/824 主分类号 H01L21/334
代理机构 代理人
主权项
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