发明名称 分析和修改轨迹的方法
摘要 本发明涉及一种用于在一个提供具有一分辨率的纹理元素的图形系统中根据由所述轨迹覆盖的固定数量的纹理元素修改一轨迹的方法,借此首先确定所述轨迹(104)的大小或形式。基于所述固定数量的纹理元素并基于所述固定大小或形式,确定(114)对应于所述轨迹的纹理元素的分辨率。接着确定所述图形系统是否提供具有所述确定分辨率的纹理元素。如果所述图形系统提供具有所述确定分辨率的纹理元素,那么保持所述轨迹。如果所述图形系统未提供具有所述确定分辨率的纹理元素,那么选择由所述图形系统所提供的具有相应分辨率的纹理元素,且减少所述轨迹的纹理元素,使得由所述具有减小尺寸的轨迹所覆盖的纹理元素的数量基本上等于或小于所述确定的数量。
申请公布号 CN1682246A 申请公布日期 2005.10.12
申请号 CN03821537.3 申请日期 2003.09.09
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 托马斯·阿克尔;罗兰·里克特
分类号 G06T11/40 主分类号 G06T11/40
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人 王允方;刘国伟
主权项 1.一种在一个提供具有一分辨率(m)的纹理元素的图形系统中根据由所述轨迹接触的指定数量(P)的纹理元素修改一轨迹(200)的方法,其包含:(a)确定(104)所述轨迹(200)的一尺度或一形状;(b)基于所述指定数量(P)的纹理元素且基于步骤(a)中所确定的尺度或形状,指定(114)与所述轨迹有关联的纹理元素的分辨率(mreq);和(c)确定(118)所述图形系统是否提供具有步骤(b)中所指定的所述分辨率(mreq)的纹理元素,(c.1)如果图形系统提供具有步骤(b)中所指定的所述分辨率(mreq)的纹理元素,(m=Mreq),那么维持所述轨迹(200);和(c.2)如果图形系统未提供具有步骤(b)中所指定的所述分辨率(mreq)的纹理元素,(m≠mreq),那么选择由所述图形系统提供并具有一各自分辨率的纹理元素,且减小(136)所述轨迹(200)的尺寸,使得由所述具有所述减小尺寸的轨迹所接触的纹理元素的数量基本等于或小于指定数量(P)。
地址 荷兰艾恩德霍芬