发明名称 用于监视和控制半导体生产过程的方法和装置
摘要 本发明提供了一种包括图形用户接口(GUI)的高级过程控制(APC)系统用于监视和控制由半导体处理系统执行的半导体制造过程。该半导体处理系统包括多个处理工具、多个处理模块(室)和多个传感器,并且APC系统包括APC服务器、数据库、接口服务器、客户工作站和GUI组件。GUI是基于网络的并且用户能够通过网络浏览器进行查看。
申请公布号 CN1682165A 申请公布日期 2005.10.12
申请号 CN03821970.0 申请日期 2003.09.25
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 梅里特·芬克;雷蒙德·比德森
分类号 G05B19/418 主分类号 G05B19/418
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 秦晨
主权项 1.一种用于在半导体处理环境中控制处理工具的高级过程控制(APC)系统,该APC系统包括:APC服务器,其提供多种APC相关应用;接口服务器(IS),其与APC服务器耦连;数据库,其与IS和APC服务器耦连;和与APC服务器耦连的GUI组分,其中IS包括用于耦连处理工具的装置,用于耦连多个处理模块的装置,和用于耦连多个传感器的装置。
地址 日本东京