光刻装置及其应用方法

摘要

本发明描述了一种方法，其用于确定通过光刻装置的投影透镜的光的偏振态。将偏振结构布置在光刻装置的投影透镜的目标侧上。通过测量经过偏振结构的光，能够确定关于投影透镜的偏振特征的信息。

主权项

1.一种在光刻投影装置中测量偏振的方法，其包括通过光刻投影装置的投影透镜投射具有偏振态的光；使被投射的光经过偏振敏感结构，该偏振敏感结构至少包括具有第一偏振特征的第一区域和具有不同于第一偏振特征的第二偏振特征的第二区域；以及分析已经通过偏振敏感结构的光以确定偏振态。