| 发明名称 | 研磨液组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种包含平均粒径为1～30nm的研磨材料和水的研磨液组合物，其中该研磨材料的填充率为79～90重量％；涉及一种基板的制造方法，其包括将上述研磨液组合物引入到基板与研磨垫之间，使其一边与所述基板接触，一边进行研磨的工序；还涉及一种减少被研磨基板的划痕的方法，其包括使用上述研磨液组合物对被研磨基板进行研磨的工序。本发明的研磨液组合物，例如适用于磁盘、磁光盘等磁性记录介质的基板、光掩模基板、光盘、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨。 | ||
| 申请公布号 | CN1680509A | 申请公布日期 | 2005.10.12 |
| 申请号 | CN200510064805.3 | 申请日期 | 2005.04.06 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 本间祐一;平幸治;高阶重昭 |
| 分类号 | C09K3/14 | 主分类号 | C09K3/14 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 陈建全 |
| 主权项 | 1.一种研磨液组合物，其包含平均粒径为1～30nm的研磨材料和水，其中该研磨材料的填充率为79～90重量％。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||