发明名称 具备选择性衰减辐射线的材料的紫外线辐射系统
摘要 本发明提供一种产生UV辐射的高能量辐射系统,该系统包括选择性衰减材料,其可选择性衰减至少30%撞击于该衰减材料上的高于200nm直至240nm的辐射线,而增加想要的辐射线对不想要的辐射线的比率,以降低辐射线对目标的损害,其并可导引50%以上撞击于该衰减材料上的240nm至280nm的辐射线。
申请公布号 CN1222322C 申请公布日期 2005.10.12
申请号 CN00120267.7 申请日期 2000.07.13
申请人 庄臣及庄臣视力保护公司 发明人 A·W·金布勒;J·B·恩斯;J·A·埃贝尔
分类号 A61L2/10;G02B5/10;G02B5/20 主分类号 A61L2/10
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 庞立志;王其灏
主权项 1.一种包括UV辐射源的高能量辐射系统,其中对于闪光灯,所述UV辐射源产生每脉冲大于0.1J/cm2的能量,或对于连续辐射源,产生大于20watts/cm2的能量,其中该装置包括选择性衰减材料,通过选择性衰减至少30%撞击于该衰减材料上的高于200nm直至240nm的辐射线,而增加想要的辐射线相对于不想要的辐射线的比率,以降低辐射线对目标的损害,其并可导引50%以上撞击于该衰减材料上的240nm至280nm的辐射线,其中所述选择性衰减材料选自多元醇类、重量平均分子量为200的丙二醇类、氟碳化合物、氯碳化合物、氟利昂、氟奈特、硅酸钠、聚二甲基硅氧烷、氯仿、有机碳酸酯、硅化合物、碳酸异丙烯酯、2-羟乙基甲基丙烯酸酯的水性分散体、二甲基丙烯酸乙二醇酯的水性分散体、钛酸钡、氧化铈、氧化铒、氧化铕、二氧化锗、氧化铪、氧化钬、氧化镧、氧化镁、氧化钐、氧化铽、氧化镱、氧化钇和尼龙。
地址 美国佛罗里达州